金屬圍壩的曝光顯影方法及金屬圍壩和陶瓷基板

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110337255.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113192845A 公開（公告）日 2021-07-30
申請公布號 CN113192845A 申請公布日 2021-07-30
分類號 H01L21/48（2006.01）I;H01L23/13（2006.01）I;H01L23/15（2006.01）I;G03F7/20（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 王軍;陳文陽;于正國 申請（專利權）人 賽創(chuàng)電氣（銅陵）有限公司
代理機構 銅陵市嘉同知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 吳晨亮
地址 244000安徽省銅陵市銅陵經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)天門山北道3129號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了金屬圍壩的曝光顯影方法及由此制得的金屬圍壩和陶瓷基板，將壓至少三層膜后的圍壩放在曝光機的曝光平臺上，曝光平臺增加遮光布開始曝光，曝光能量為1000mj/cm，顯影次數(shù)為兩次，顯影速度0.75m/min，墊條高度1.2mm。本發(fā)明的有益效果是通過對曝光顯影工藝的改進，調整曝光時間、墊條高度、顯影次數(shù)和顯影速度，可以對多層比如六層壓膜的圍壩進行符合要求的顯影效果。