一種動態(tài)檢測裝置及化學機械平坦化設備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210164369.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114220748B | 公開(公告)日 | 2022-06-21 |
申請公布號 | CN114220748B | 申請公布日 | 2022-06-21 |
分類號 | H01L21/66;H01L21/306 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陳陽陽;殷騏 | 申請(專利權)人 | 杭州眾硅電子科技有限公司 |
代理機構 | 杭州凱知專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 邵志 |
地址 | 311300 浙江省杭州市臨安區(qū)青山湖街道創(chuàng)業(yè)街88號1幢一層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種動態(tài)檢測裝置,包括:發(fā)射單元;反饋單元,用于接收發(fā)射單元發(fā)出的光束;發(fā)射單元和反饋單元分別設于晶圓傳輸手或晶圓清洗模組;發(fā)射單元和反饋單元分別位于晶圓的兩側,當晶圓傳輸手上夾持有晶圓時,該晶圓可阻擋光束;發(fā)射單元或反饋單元隨著晶圓傳輸手移動,可與晶圓清洗模組的任一反饋單元或發(fā)射單元配合,用于檢測兩者之間的光路內(nèi)是否有晶圓,以判斷晶圓傳輸手上是否夾持有晶圓。本發(fā)明還公開了一種化學機械平坦化設備。本發(fā)明可以實時檢測每個或任意一個晶圓傳輸手上是否夾持有晶圓;晶圓傳輸手的移動通道不會被阻隔,移動更加靈活;實現(xiàn)了動態(tài)檢測,可選擇性地與任意晶圓清洗模組配合進行檢測。 |
