電子級氫氟酸的連續(xù)化制備系統(tǒng)及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110755055.3 申請日 -
公開（公告）號 CN113651294A 公開（公告）日 2021-11-16
申請公布號 CN113651294A 申請公布日 2021-11-16
分類號 C01B7/19（2006.01）I;B01D3/28（2006.01）I;B01D3/32（2006.01）I;B01D53/18（2006.01）I;B01D53/14（2006.01）I;B01J19/00（2006.01）I 分類 無機化學(xué);
發(fā)明人 張亮亮;周黎旸;初廣文;童繼紅;陳建峰;陳剛;孫寶昌;賀輝龍;趙曉亞;張一棟 申請（專利權(quán)）人 中巨芯科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京正理專利代理有限公司 代理人 趙曉丹
地址 100029北京市朝陽區(qū)北三環(huán)東路15號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種電子級氫氟酸的連續(xù)化制備系統(tǒng)及方法，半導(dǎo)體器件的制備過程采用特殊工藝生產(chǎn)的電子級氟化氫進行蝕刻和清洗，本申請的電子級氟化氫，利用亞氟/氟氣協(xié)同氧化效應(yīng)結(jié)合超重力氧化反應(yīng)/分離耦合強化技術(shù)，將原料中雜質(zhì)離子深度氧化，顯著降低雜質(zhì)離子含量。根據(jù)工業(yè)試驗結(jié)果，采用本發(fā)明的系統(tǒng)和方法生產(chǎn)得到的電子級氫氟酸中雜質(zhì)含量小于3ppt，As、Fe、Ca、B等雜質(zhì)元素含量均較當(dāng)前主流工藝減少10倍以上，其中最主要雜質(zhì)As的含量降低至0.001ug/L以下，相較于當(dāng)前主流工藝減少200倍以上。