金屬植入物磁共振成像方法、系統(tǒng)、終端及存儲(chǔ)介質(zhì)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011209857.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112630709A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-04-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112630709A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-09 |
| 分類(lèi)號(hào) | G01R33/28(2006.01)I;A61B5/055(2006.01)I;G01R33/36(2006.01)I | 分類(lèi) | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 李行璇 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 成都易檢醫(yī)療科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海申新律師事務(wù)所 | 代理人 | 竺路玲 |
| 地址 | 610200四川省成都市中國(guó)（四川）自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)成都市雙流區(qū)東升街道航樞大道500號(hào)3樓附301號(hào)附22號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種金屬植入物磁共振成像方法、系統(tǒng)、終端及存儲(chǔ)介質(zhì)，應(yīng)用于超低場(chǎng)磁共振成像裝置，其特征在于，包括：根據(jù)所述金屬植入物的信息獲取安全掃描參數(shù)；根據(jù)所述安全掃描信息設(shè)置所述超低場(chǎng)磁共振成像裝置的射頻參數(shù)及成像參數(shù)；根據(jù)所述射頻參數(shù)及所述成像參數(shù)進(jìn)行磁共振成像，能夠應(yīng)用超低場(chǎng)的磁共振成像裝置進(jìn)行金屬植入物磁共振成像，獲得的圖像清晰，不會(huì)受到金屬植入物高固有磁化率的影響。?? |
