一種帶真空機(jī)械臂的磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810158684.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108277468B 公開（公告）日 2019-11-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN108277468B 申請(qǐng)公布日 2019-11-12
分類號(hào) C23C14/35（2006.01）I; C23C14/50（2006.01）I; C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孫寶玉; 陳曉東; 楊威力; 段永利 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 沈陽(yáng)中北真空技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 110168 遼寧省沈陽(yáng)市渾南區(qū)匯泉東路8-1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種帶真空機(jī)械臂的磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備和鍍膜方法，該設(shè)備包括真空鍍膜室、真空機(jī)械臂室、磁控濺射靶組件、立式旋轉(zhuǎn)鼓，在真空鍍膜室側(cè)壁上設(shè)置有與真空機(jī)械臂室連接的接口。立式旋轉(zhuǎn)鼓繞垂直軸線旋轉(zhuǎn)，其中心設(shè)置有密封箱。多組磁控濺射靶設(shè)置在立式旋轉(zhuǎn)鼓外圍的真空鍍膜室側(cè)壁上。真空機(jī)械臂室內(nèi)設(shè)置有真空機(jī)械臂，在真空狀態(tài)下水平和豎直移動(dòng)。鍍膜方法包括對(duì)鍍膜設(shè)備抽真空，轉(zhuǎn)動(dòng)立式旋轉(zhuǎn)鼓達(dá)到設(shè)定的轉(zhuǎn)速，啟動(dòng)射頻離子源，按工藝要求交替鍍制兩種材料的膜層，還包括采用真空機(jī)械臂將裝有基片的基板裝卡到立式旋轉(zhuǎn)鼓上以及將鍍膜后的基板從立式旋轉(zhuǎn)鼓上取下。