一種磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810158677.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108315704B 公開（公告）日 2020-03-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN108315704B 申請(qǐng)公布日 2020-03-27
分類號(hào) C23C14/35;C23C14/54 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孫寶玉;陳曉東;楊威力;段永利 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 沈陽中北真空技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 110168 遼寧省沈陽市渾南區(qū)匯泉東路8-1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備和鍍膜方法，該設(shè)備包含真空鍍膜室、磁控濺射靶組件、立式旋轉(zhuǎn)鼓，真空鍍膜室為立式圓筒形結(jié)構(gòu)，立式旋轉(zhuǎn)鼓位于真空鍍膜室內(nèi)，繞垂直軸線旋轉(zhuǎn)，立式旋轉(zhuǎn)鼓中心設(shè)置有旋轉(zhuǎn)密封箱，旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)設(shè)置有膜厚測(cè)量儀表，旋轉(zhuǎn)密封箱的上部連接有旋轉(zhuǎn)軸，旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)的氣氛與真空鍍膜室隔離。多組磁控濺射靶組件設(shè)置在立式旋轉(zhuǎn)鼓外圍的真空鍍膜室的側(cè)壁上。鍍膜方法包括將需要鍍膜的工件裝卡到鍍膜設(shè)備的立式旋轉(zhuǎn)鼓的側(cè)面，對(duì)鍍膜設(shè)備抽真空；轉(zhuǎn)動(dòng)立式旋轉(zhuǎn)鼓達(dá)到設(shè)定的轉(zhuǎn)速；啟動(dòng)射頻離子源；交替啟動(dòng)第一種材料的磁控靶靶和第二種材料的磁控靶，按工藝要求鍍制膜層。