一種新式薄膜晶體管的設(shè)計(jì)方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811561139.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN109801974A | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-05-24 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109801974A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-05-24 |
分類(lèi)號(hào) | H01L29/786(2006.01)I; H01L21/34(2006.01)I; H01L21/336(2006.01)I; G03F1/00(2012.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陸文正 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 華映科技(集團(tuán))股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 福州元?jiǎng)?chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 華映科技(集團(tuán))股份有限公司 |
地址 | 350015 福建省福州市馬尾區(qū)儒江西路6號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種新式薄膜晶體管的設(shè)計(jì)方法,首先,進(jìn)行第一道光罩導(dǎo)線層制程;其次,進(jìn)行第二道光罩柵極絕緣層及半導(dǎo)體層制程;然后,進(jìn)行第三道光罩畫(huà)素電極制程;最后,進(jìn)行第四道光罩鈍化層制程。本發(fā)明的四道光罩TFT制程,與原本五道光罩制程最大的差別是在第三光罩制程,四道光罩制程中的第三道光罩可取代五道光罩制程中的第三、第五道光罩,之后的第四道與五道制程中的第四道相同。本發(fā)明能夠在不使用HTM光罩的情況下,可將傳統(tǒng)五道光罩TFT制程降至四道光罩制程,不僅可減少光罩?jǐn)?shù)及制作流程,也可降低藥液、特氣等生產(chǎn)成本。 |
