一種氣體噴射裝置的進(jìn)氣結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023346151.2 申請日 -
公開（公告）號 CN214440136U 公開（公告）日 2021-10-22
申請公布號 CN214440136U 申請公布日 2021-10-22
分類號 B05B9/03;B05B13/00 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 龔龍;龔雪 申請（專利權(quán)）人 江蘇申氫宸科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 胡彬
地址 214443 江蘇省無錫市江陰市申港街道港城大道988-7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種氣體噴射裝置的進(jìn)氣結(jié)構(gòu)，其中氣體噴射裝置包括主體部、銜鐵、電磁線圈和彈簧，主體部內(nèi)開設(shè)有通向頭端噴嘴的軸向氣道，電磁線圈設(shè)置于銜鐵的外圈，彈簧作用于銜鐵的尾端，從而驅(qū)動銜鐵于軸向氣道中向往復(fù)動作，實(shí)現(xiàn)流量控制，進(jìn)氣結(jié)構(gòu)包括套設(shè)于主體部外的套管，套管上徑向開設(shè)有一次進(jìn)氣口，主體部的表面開設(shè)有環(huán)形槽，形成緩沖室，環(huán)形槽中徑向開設(shè)有二次進(jìn)氣口，一次進(jìn)氣口、環(huán)形槽、二次進(jìn)氣口、軸向氣道依次連通形成氣體通道，一次進(jìn)氣口與二次進(jìn)氣口偏心設(shè)置。上述氣體噴射裝置的進(jìn)氣結(jié)構(gòu)可有效降低對軸向氣道進(jìn)氣干擾，減小進(jìn)氣對部件及噴射性能的影響。