一種三維斷層成像設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020345006.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN212111830U | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-12-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN212111830U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-08 |
分類號(hào) | G01V5/00(2006.01)I;G01N23/046(2018.01)I | 分類 | 測(cè)量;測(cè)試; |
發(fā)明人 | 奚道明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州瑞邁斯醫(yī)療科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 215163江蘇省蘇州市高新區(qū)錦峰路8號(hào)17號(hào)樓北樓201-1室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種三維斷層成像設(shè)備,包括射線發(fā)生器、物體傳送裝置以及探測(cè)器陣列,射線發(fā)生器向物體傳送裝置方向發(fā)出射線,探測(cè)器陣列接收射線,探測(cè)器陣列與射線發(fā)生器分別位于物體傳送裝置的兩側(cè),探測(cè)器陣列包括不少于四個(gè)線陣探測(cè)器,線陣探測(cè)器在射線發(fā)生器的照射范圍內(nèi)沿著物體的傳送方向間隔排列,相鄰的兩個(gè)線陣探測(cè)器之間的間隔距離不小于線陣探測(cè)器自身的寬度,每一個(gè)線陣探測(cè)器包括至少四個(gè)探測(cè)像元。本實(shí)用新型的三維斷層成像設(shè)備可以獲取物體的斷層圖像,同時(shí)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,成本低廉。?? |
