一種用于鈦金屬氧碳共滲的裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201610221225.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN105755426B | 公開(公告)日 | 2018-10-09 |
申請公布號 | CN105755426B | 申請公布日 | 2018-10-09 |
分類號 | C23C8/28 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 羅小峰;高廣睿;王寶云;屈靜;劉晶;鄭曉晨 | 申請(專利權(quán))人 | 陜西秦農(nóng)農(nóng)村商業(yè)銀行股份有限公司未央支行 |
代理機構(gòu) | 陜西增瑞律師事務(wù)所 | 代理人 | 西安賽福斯材料防護有限責任公司 |
地址 | 710200 陜西省西安市經(jīng)濟開發(fā)區(qū)涇渭新城新材料產(chǎn)業(yè)園涇高西路中段 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種用于鈦金屬氧碳共滲的裝置,包括真空室,所述真空室上方設(shè)有進氣口和壓力表,真空室的下方設(shè)有泵組,真空室內(nèi)還設(shè)置有發(fā)熱體;在真空室的內(nèi)壁上盤繞有與進氣口聯(lián)通的進氣預(yù)熱管,進氣預(yù)熱管自真空室上方的進氣口繞真空室內(nèi)壁成環(huán)形向下繞行,進氣預(yù)熱管繞至真空室下方,進氣預(yù)熱管的出氣口設(shè)置在物料架的下方,物料架的中部放置鈦件,兩側(cè)放置純石墨。本發(fā)明采用對進氣二氧化碳進行預(yù)熱處理的方式,且預(yù)熱處理在發(fā)熱體后側(cè)進行,對主工作區(qū)溫度幾乎沒有影響,預(yù)熱氣體進入真空室后可以更好的與純石墨進行反應(yīng),從而生成穩(wěn)定的一氧化碳與鈦金屬進行反應(yīng),有效保證了產(chǎn)品質(zhì)量。 |
