一種鍍膜基板的均勻控溫裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120007805.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN214271034U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-09-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214271034U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-09-24 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/50（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 王同樂(lè);王應(yīng)發(fā);林慧 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 德潤(rùn)特?cái)?shù)字影像科技（北京）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 寧波甬致專(zhuān)利代理有限公司 | 代理人 | 潘李亮 |
| 地址 | 100093北京市海淀區(qū)閔莊路3號(hào)33號(hào)樓一層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及真空鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鍍膜基板的均勻控溫裝置及方法。包括鍍膜基板（6），它包括固定結(jié)構(gòu)、設(shè)有液體流道（4）的導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)以及用于帶動(dòng)液體流道（4）內(nèi)的液體循環(huán)流動(dòng)的液體循環(huán)系統(tǒng)，所述鍍膜基板（6）固定在固定結(jié)構(gòu)內(nèi)，所述固定結(jié)構(gòu)設(shè)置在導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)上，而且所述鍍膜基板（6）與導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)之間還設(shè)有密閉空腔，并且它還包括用于帶動(dòng)密閉空腔內(nèi)的氣體循環(huán)流動(dòng)的氣體循環(huán)系統(tǒng)。該裝置采用氣體、液體聯(lián)動(dòng)給鍍膜基板降溫，實(shí)現(xiàn)對(duì)鍍膜基板均勻控溫。 |
