半導(dǎo)體襯底研磨拋光中蠟回收再利用的方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811549877.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN109722220B | 公開(公告)日 | 2020-11-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109722220B | 申請(qǐng)公布日 | 2020-11-10 |
分類號(hào) | C09J191/06;C09J11/04;C09J11/06 | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 張澤芳;鞏強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海映智研磨材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張新鑫;許亦琳 |
地址 | 201799 上海市青浦區(qū)青安路958、968號(hào)4幢3層S區(qū)329室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體襯底研磨拋光中蠟回收再利用的方法,所述方法主要包括:去除回收蠟中的雜質(zhì)以及配置新蠟。本方法通用性強(qiáng),可以針對(duì)不同原料組成的回收蠟實(shí)施,成本低,回收利用率可以達(dá)到80%以上,制得新蠟可以與市購蠟具有相當(dāng)?shù)男阅堋?/td> |
