等離子刻蝕設(shè)備反應(yīng)腔的清潔方法及晶圓刻蝕方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111186794.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113936989A | 公開（公告）日 | 2022-01-14 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113936989A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-01-14 |
| 分類號(hào) | H01J37/32（2006.01）I;H01L21/3065（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 張賢亮;劉金軍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 合肥頎中科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州威世朋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 段友強(qiáng) |
| 地址 | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)鳳里街166號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了等離子刻蝕設(shè)備反應(yīng)腔的清潔方法及晶圓刻蝕方法，其中，等離子刻蝕設(shè)備反應(yīng)腔的清潔方法包括如下步驟：在反應(yīng)腔內(nèi)的晶圓承載臺(tái)上放置鋁板；采用等離子體射頻技術(shù)將充填在反應(yīng)腔內(nèi)的惰性氣體電離成等離子體；等離子體對(duì)所述鋁板產(chǎn)生轟擊以形成鋁原子；鋁原子在反應(yīng)腔的內(nèi)壁上附著并形成鋁膜。本發(fā)明通過在反應(yīng)腔內(nèi)電離惰性氣體形成對(duì)鋁板轟擊的等離子體以在鋁板上電離出鋁原子，在鋁原子電離后附著沉積在反應(yīng)腔內(nèi)壁上形成鋁膜對(duì)反應(yīng)副產(chǎn)物的遮蓋，避免了反應(yīng)副產(chǎn)物對(duì)晶圓刻蝕的影響，由此延長(zhǎng)了PM周期，提高了設(shè)備利用率及產(chǎn)能，降低了生產(chǎn)成本。 |
