背照式高速光電二極管接收芯片
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201720045224.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN206657816U | 公開(公告)日 | 2017-11-21 |
申請公布號(hào) | CN206657816U | 申請公布日 | 2017-11-21 |
分類號(hào) | H01L31/102(2006.01)I;H01L31/0232(2014.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊彥偉;陸一峰;劉格;劉勝宇;劉宏亮 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市芯思杰聯(lián)邦國際科技發(fā)展有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京友聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 深圳市芯思杰聯(lián)邦國際科技發(fā)展有限公司 |
地址 | 518071 廣東省深圳市南山區(qū)學(xué)苑大道1001號(hào)南山智園A5棟4樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提出了一種背照式高速光電二極管接收芯片,包括:外延層,包括P型臺(tái)面、N型臺(tái)面、磷化銦襯底;P型臺(tái)面包括銦砷化鎵吸收層、磷砷化鎵銦漸變層、反射鏡面層、磷化銦頂層、銦砷化鎵接觸層;N型臺(tái)面包括磷化銦緩沖層;其中,磷化銦襯底上依次生長磷化銦緩沖層,銦砷化鎵吸收層、磷砷化鎵銦漸變層、反射鏡面層、磷化銦頂層、銦砷化鎵接觸層;集成微透鏡,設(shè)置于磷化銦襯底的一側(cè),且集成微透鏡與磷化銦緩沖層在磷化銦襯底的不同側(cè)。本實(shí)用新型能夠在確保芯片擴(kuò)散源區(qū)面積保持不變的情況下,擴(kuò)展芯片的光吸收面積,解決芯片擴(kuò)散源區(qū)面積小所導(dǎo)致的耦合效率低的問題,以及加入反射鏡面層能夠使芯片的量子效率得到改善。 |
