一種用于改善晶圓干燥模組潔凈度的機構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202023272270.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214250516U | 公開(公告)日 | 2021-09-21 |
申請公布號 | CN214250516U | 申請公布日 | 2021-09-21 |
分類號 | F26B25/00(2006.01)I;C30B33/00(2006.01)I | 分類 | 干燥; |
發(fā)明人 | 鄧信甫;周乾;劉大威;陳丁堃 | 申請(專利權(quán))人 | 至微半導體(上海)有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海申新律師事務所 | 代理人 | 沈棟棟 |
地址 | 200241上海市閔行區(qū)紫海路170號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種用于改善晶圓干燥模組潔凈度的機構(gòu),涉及到半導體技術領域,包括干燥模組殼體以及設于干燥模組殼體內(nèi)的晶圓干燥槽體,還包括第一導流板、第二導流板和集液槽圍板,干燥模組殼體的兩側(cè)設有兩第一導流板和兩第二導流板,每一第一導流板的一側(cè)分別與干燥模組殼體連接,每一第一導流板的另一側(cè)分別與一第二導流板的一側(cè)連接,集液槽圍板設于晶圓干燥槽體的兩側(cè),每一集液槽圍板與晶圓干燥槽體之間分別形成一集液槽,每一第二導流板的一側(cè)分別延伸至一集液槽的上側(cè)。其能夠有效的降低液體滴落反濺的可能性,即便回彈的現(xiàn)象產(chǎn)生,也會被第一導流板遮擋,能夠有效的防止液體滴落對晶圓盒或晶圓的潔凈度產(chǎn)生的不利影響。 |
