壓印襯底及壓印方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111366654.2 申請日 -
公開（公告）號 CN114002915A 公開（公告）日 2022-02-01
申請公布號 CN114002915A 申請公布日 2022-02-01
分類號 G03F7/00（2006.01）I;G02B3/00（2006.01）I;G02B5/18（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 徐琦;張國偉;劉博;蔣超;田克漢;王淼 申請（專利權(quán)）人 北京馭光科技發(fā)展有限公司
代理機構(gòu) 北京律和信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 郝文博
地址 100083北京市海淀區(qū)知春路23號6層609室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種壓印襯底，用于固定于壓印設(shè)備的載物臺上，壓印襯底為用于制備衍射光學(xué)元件或微透鏡陣列的壓印襯底，壓印襯底包括：功能部和穩(wěn)定部，功能部用于涂覆光固化或熱固化膠水，功能部具有厚度均勻的有效區(qū)和包圍有效區(qū)的無效區(qū)，有效區(qū)用于作為納米壓印圖形的承載區(qū)域。穩(wěn)定部固定設(shè)置于功能部的無效區(qū)上，且穩(wěn)定部的厚度大于功能部的厚度。本發(fā)明的實施例利用穩(wěn)定部的重力抵抗膠水固化過程中的內(nèi)縮應(yīng)力，避免了襯底翹曲變形，提高了產(chǎn)品的合格率，進而為選擇大尺寸超薄襯底提供了條件。同時，本發(fā)明還提供了一種壓印方法，依靠前述的壓印襯底進行納米壓印。