一種等離子體源以及鍍膜機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710054054.X 申請日 -
公開（公告）號 CN106847661B 公開（公告）日 2018-11-20
申請公布號 CN106847661B 申請公布日 2018-11-20
分類號 H01J37/08;H01J37/32 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張誠;陳亮 申請（專利權(quán)）人 北京丹華科技發(fā)展有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京漢昊知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 北京丹華科技發(fā)展有限公司;三河市衡岳真空設(shè)備有限公司
地址 100080 北京市海淀區(qū)知春路51號慎昌大廈5層5409室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種等離子體源，該等離子體源包括：殼體；等離子體生成室，設(shè)置在殼體內(nèi)，用于提供等離子體的生成區(qū)域；氣體供給裝置，與等離子體生成室連接，用于向等離子體生成室中供給工藝氣體；電極，設(shè)置在等離子體生成室外靠近等離子體生成室的位置，用于電離工藝氣體以生成等離子體；第一磁體和第二磁體，用于在等離子體生成室內(nèi)生成磁場，第一磁體和第二磁體分別設(shè)置在等離子體生成室外靠近其側(cè)壁和底面；柵網(wǎng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置在等離子體生成室的開口處，用于拉出離子以及對離子加速；射頻電源，與電極連接，用于向電極提供射頻電。本發(fā)明還提供了一種鍍膜機(jī)。實(shí)施本發(fā)明可以有效提高等離子體的離化效率以及對離子能量進(jìn)行控制。