一種SiCl4氣體加熱裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201120096452.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN202046889U 公開(kāi)（公告）日 2011-11-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN202046889U 申請(qǐng)公布日 2011-11-23
分類(lèi)號(hào) C01B33/027(2006.01)I 分類(lèi) 無(wú)機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 劉崗;周大榮;孫建榮;蔣敏;孫兵 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 連云港中彩科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京眾聯(lián)專利代理有限公司 代理人 連云港中彩科技有限公司
地址 222000 江蘇省連云港市連云區(qū)連云經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)板橋工業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種SiCl4氣體加熱裝置，設(shè)有爐體，爐體上設(shè)有進(jìn)氣口和出氣口，在爐體內(nèi)壁上設(shè)有電加熱排，爐體內(nèi)設(shè)有與進(jìn)氣口和出氣口相連接的換熱盤(pán)管，換熱盤(pán)管呈螺旋狀盤(pán)繞成內(nèi)、中、外三層換熱柱，在內(nèi)層換熱柱與中間層換熱柱之間設(shè)有內(nèi)加熱筒，在爐體內(nèi)的頂部設(shè)有循環(huán)風(fēng)機(jī)。外層換熱柱與爐體內(nèi)壁之間為氣流下行通道，相鄰換熱柱之間為氣流上行通道，循環(huán)風(fēng)機(jī)設(shè)有與氣流上行通道相對(duì)的吸風(fēng)口，在循環(huán)風(fēng)機(jī)的四周設(shè)有與氣流下行通道相對(duì)應(yīng)的導(dǎo)流板，爐體底部設(shè)有導(dǎo)流道。采用間接加熱方式，并通過(guò)循環(huán)風(fēng)機(jī)強(qiáng)制內(nèi)循環(huán)，加熱均勻，爐體不再與SiCl4氣體直接接觸，對(duì)設(shè)備腐蝕少，氣體流動(dòng)性好，無(wú)加熱死角，設(shè)備使用壽命長(zhǎng)，投資少。