一種大型高致密鉻靶的制造方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201210156200.7 申請日 -
公開（公告）號 CN102677005B 公開（公告）日 2013-11-06
申請公布號 CN102677005B 申請公布日 2013-11-06
分類號 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;B22F3/16(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王廣欣;鐘小亮;豆帆 申請（專利權(quán)）人 煙臺碩德新材料有限公司
代理機構(gòu) 煙臺雙聯(lián)專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 梁翠榮
地址 264006 山東省煙臺市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)高雄路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種高致密鉻靶的熱壓方法，該方法包括依次進(jìn)行的：抽真空、分階段升溫升壓、保壓爐冷、熱鍛、退火、熱軋、機加工，七個步驟。通過設(shè)計合理的工藝步驟，篩選穩(wěn)定的工藝參數(shù)，達(dá)到了低成本制得大型高致密鉻靶的目的。