晶圓旋轉(zhuǎn)裝置及化學(xué)氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111427199.2 申請日 -
公開（公告）號 CN114141684A 公開（公告）日 2022-03-04
申請公布號 CN114141684A 申請公布日 2022-03-04
分類號 H01L21/683（2006.01）I;H01L21/687（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 王會會;劉洋;金補哲 申請（專利權(quán)）人 盛吉盛（寧波）半導(dǎo)體科技有限公司
代理機構(gòu) 上海老虎專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 葛瑛
地址 315100浙江省寧波市鄞州區(qū)云龍鎮(zhèn)石橋村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種晶圓旋轉(zhuǎn)裝置及化學(xué)氣相沉積設(shè)備,所述包括靜電吸盤、反應(yīng)腔體、晶圓支撐架，所述靜電吸盤通過三個提升銷與晶圓支撐架連接，靜電吸盤依據(jù)靜電原理吸引晶圓片；所述反應(yīng)腔體左側(cè)接入反應(yīng)氣體管道并配有壓力計，底部連接尾氣管路，配有壓力計，并通過節(jié)流閥連接于渦輪泵上；所述反應(yīng)腔體頂部連接遠(yuǎn)程等離子體源，中間為清潔氣體管路，清潔氣體管路穿過陶瓷鐘罩，且尾部接有噴頭；所述晶圓支撐架底部與反應(yīng)腔體密封連接。本發(fā)明在于不僅可以對晶圓進(jìn)行升降動作，還可以通過驅(qū)動馬達(dá)來對晶圓進(jìn)行旋轉(zhuǎn)作業(yè)，通過旋轉(zhuǎn)晶圓來達(dá)到改善工藝均勻性的目的，進(jìn)而提高了產(chǎn)品良率。