一種高溫用靜態(tài)石墨加熱裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120273019.9 申請日 -
公開（公告）號 CN215063613U 公開（公告）日 2021-12-07
申請公布號 CN215063613U 申請公布日 2021-12-07
分類號 F27B5/04（2006.01）I;F27B5/05（2006.01）I;F27B5/14（2006.01）I;H05B3/03（2006.01）I;H05B3/02（2006.01）I;H05B3/14（2006.01）I;H05B3/62（2006.01）I 分類 爐；窯；烘烤爐；蒸餾爐〔4〕;
發(fā)明人 謝庚;王衛(wèi)民;吳忠勇;王山;雷仲波;孫毅晨;陶應(yīng)翔 申請（專利權(quán)）人 重慶新離子環(huán)境科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安弘理專利事務(wù)所 代理人 徐瑤
地址 400000重慶市大渡口區(qū)思源路32號5幢（二層、三層）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開的一種高溫用靜態(tài)石墨加熱裝置，包括有由上至下依次設(shè)置的若干層石墨電極組件，每層石墨電極組件的一端端部依次連接有石墨電極引棒、導(dǎo)電銅排、水冷電極，水冷電極外接電源。該一種高溫用靜態(tài)石墨加熱裝置，能夠用于真空爐或氣氛爐，具有允許表面熱負(fù)荷高，安裝簡易，保證加熱區(qū)域輻射加熱均勻性的特點(diǎn)。