方筒形柵內(nèi)嵌U形溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201711050846.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN107833926B | 公開(公告)日 | 2020-08-07 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN107833926B | 申請(qǐng)公布日 | 2020-08-07 |
分類號(hào) | H01L29/786;H01L21/336 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉溪;夏正亮;靳曉詩(shī) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蚌埠弘景科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 沈陽(yáng)智龍專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 宋鐵軍 |
地址 | 350800 福建省福州市閩清縣白樟鎮(zhèn)白洋村中心路 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及高集成度方筒形柵內(nèi)嵌U形溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制造方法。在U形單晶硅所形成的凹槽內(nèi)部,僅需填充絕緣介質(zhì)以實(shí)現(xiàn)兩側(cè)垂直溝道的彼此隔離,在凹槽內(nèi)部無(wú)需引入用于生成柵電極的金屬材料或者多晶硅材料,凹槽內(nèi)部結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單,可實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)意義上物理柵電極長(zhǎng)度僅有1納米的,即源電極和漏電極之間的間距僅有1納米的高集成金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管。本發(fā)明采用方筒形柵電極,在U形單晶硅所形成的凹槽內(nèi)部不引入柵電極的前提下,保證了柵電極對(duì)U形單晶硅溝道的控制能力,即提高集成度的同時(shí)保證了柵電極對(duì)溝道的控制能力。因此適用于推廣應(yīng)用。 |
