一種光刻版翻版機(jī)及光刻版翻版系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110635723.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113391525A | 公開(公告)日 | 2021-09-14 |
申請公布號 | CN113391525A | 申請公布日 | 2021-09-14 |
分類號 | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 于航;馬占良;劉俊嘉 | 申請(專利權(quán))人 | 吉林華微電子股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 成都極刻智慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 唐維虎 |
地址 | 132000吉林省吉林市高新區(qū)深圳街99號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請公開了一種光刻版翻版機(jī)及光刻版翻版系統(tǒng),光刻版翻版機(jī)包括:底板、上版框、下版框、合頁組件結(jié)構(gòu)和曝光單元;下版框位于底板的一側(cè),上版框通過合頁組件結(jié)構(gòu)與下版框活動連接,曝光單元位于上版框遠(yuǎn)離下版框的一側(cè);下版框和上版框用于容置待制作的光刻版;曝光單元用于提供光源將待曝光的母版圖形接觸式曝光至光刻版上,通過上述設(shè)置,能夠制作得到圖形形狀、尺寸線寬與母版一致的光刻版,解決了母版上存在塵埃、劃傷、沾污等缺陷,曝光后芯片表面存在的缺陷嚴(yán)重影響產(chǎn)品合格率、電學(xué)參數(shù)和質(zhì)量的問題,同時大大降低光刻版原材料成本。 |
