一種分布式反饋激光器及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110297694.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112864802A | 公開（公告）日 | 2021-05-28 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112864802A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-28 |
| 分類號(hào) | H01S5/065(2006.01)I;H01S5/06(2006.01)I;H01S5/22(2006.01)I;H01S5/20(2006.01)I;H01S5/042(2006.01)I;H01S5/12(2021.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 吳猛;劉朝明;王濤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 因林光電科技（蘇州）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 孟金喆 |
| 地址 | 215002江蘇省蘇州市蘇州高新區(qū)科技城五臺(tái)山路588號(hào)2號(hào)廠房101 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種分布式反饋激光器及其制備方法，分布式反饋激光器包括：激光器外延結(jié)構(gòu)，激光器外延結(jié)構(gòu)包括襯底以及位于襯底一側(cè)的多層外延層；位于上接觸層遠(yuǎn)離襯底一側(cè)的第一電極層；其中，第一電極層、上接觸層和部分上光場(chǎng)限制層形成脊形結(jié)構(gòu)和光柵結(jié)構(gòu)組，光柵結(jié)構(gòu)組位于脊形結(jié)構(gòu)兩側(cè)；光柵結(jié)構(gòu)組包括至少兩個(gè)沿第一方向排列的子光柵結(jié)構(gòu)，存在兩個(gè)子光柵結(jié)構(gòu)的光柵周期L不同；至少兩個(gè)子光柵結(jié)構(gòu)包括至少一個(gè)公共激射模式；第一方向與襯底所在平面平行；位于襯底遠(yuǎn)離外延層一側(cè)的第二電極層。本發(fā)明有效降低器件制備難度和制備成本，降低器件的光損耗，增加光柵制備精度，顯著提升器件的性能。?? |
