旋光聚氨酯脲紅外低發(fā)射率材料及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200910036266.0 申請日 -
公開（公告）號 CN101696260B 公開（公告）日 2011-06-22
申請公布號 CN101696260B 申請公布日 2011-06-22
分類號 C08G18/32(2006.01)I;C08G18/10(2006.01)I;C07C275/40(2006.01)I;C07C273/18(2006.01)I 分類 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 周鈺明;王志強(qiáng);孫艷青 申請（專利權(quán)）人 江蘇東大科技園發(fā)展有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 東南大學(xué);江蘇東大科技園發(fā)展有限公司
地址 210096 江蘇省南京市四牌樓2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明的目的是提供一種旋光聚氨酯脲紅外低發(fā)射率材料及其制備方法。該材料具有較高的旋光度、良好的熱穩(wěn)定性、可調(diào)的鏈結(jié)構(gòu)、穩(wěn)定的構(gòu)象、良好的結(jié)晶性能以及良好的耐溶劑性，可以作為紅外低發(fā)射率材料使用，也可用于紅外隱身材料的聚合物基底。該材料由光學(xué)純度為50～100％的R或S型1，1’-聯(lián)萘-2，2’-二酚、二異氰酸酯和二胺，通過氫轉(zhuǎn)移加成三單體聚合得到。該類材料的玻璃化溫度大于200℃，熱分解溫度大于250℃，旋光度絕對值約為40°～150°，在25℃下8～14μm波段的平均紅外發(fā)射率為0.350～0.800。