一種三維三相電催化氧化系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201820244549.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN208532331U | 公開(公告)日 | 2019-02-22 |
申請公布號 | CN208532331U | 申請公布日 | 2019-02-22 |
分類號 | C02F1/46 | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
發(fā)明人 | 謝崇澤 | 申請(專利權(quán))人 | 廣州昭合環(huán)??萍加邢薰?/a> |
代理機構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 | 代理人 | 廣州昭合環(huán)保科技有限公司 |
地址 | 510075 廣東省廣州市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)科學城掬泉路3號廣州國際企業(yè)孵化器A區(qū)A905號房間 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種三維三相電催化氧化系統(tǒng),包括:反應器本體、第一電極筒、第二電極筒、曝氣裝置、粒子填料、第一篩板以及第二篩板;第一電極筒的外壁與反應器本體的內(nèi)壁相貼合;反應器本體的內(nèi)腔通過上下貫通的第二電極筒分隔成兩個水流區(qū),第二電極筒內(nèi)部的區(qū)域為第一水流區(qū),第一電極筒與第二電極筒之間的環(huán)形區(qū)域為第二水流區(qū),第二電極筒的底部與反應器本體的內(nèi)底板之間留有空隙;曝氣裝置的出氣端設置在第一水流區(qū)的底部;第一篩板與第二篩板設置在第二水流區(qū)中,粒子填料設置在第一篩板、第一電極筒、第二篩板以及第二電極筒所形成的包圍空間內(nèi)。本實用新型能調(diào)整極間間距,利用氣提形成內(nèi)循環(huán)系統(tǒng),使反應更充分,且降低能耗。 |
