一種蒸發(fā)源裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120246049.0 申請日 -
公開（公告）號 CN214244592U 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN214244592U 申請公布日 2021-09-21
分類號 C23C14/24（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請（專利權(quán)）人 杭州纖納光電科技有限公司
代理機構(gòu) 杭州奧創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 楊文華
地址 311121浙江省杭州市余杭區(qū)倉前街道龍?zhí)堵?號B幢209室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種蒸發(fā)源裝置，包括依次相互連通的進氣部分、蒸發(fā)部分、出氣部分和真空艙室，進氣部分包括進氣管道和進氣閥門，蒸發(fā)部分包括前加熱管道、鍍膜材料加熱管道、后加熱管道以及金屬濾網(wǎng)，金屬濾網(wǎng)設(shè)置在鍍膜材料加熱管道中，所用鍍膜材料放置在金屬濾網(wǎng)上被加熱蒸發(fā)成鍍膜氣體，在鍍膜材料加熱管道的兩端分別設(shè)置連接裝置與前加熱管道、后加熱管道實現(xiàn)可拆裝的連通，出氣部分包括出氣管道和出氣閥門，前加熱管道的另一端與進氣閥門連接，后加熱管道的另一端與出氣閥門連接。本實用新型解決氣相傳輸沉積法中存在的蒸鍍不均勻、材料易堆積在管道、裝置復雜等問題。