一種強(qiáng)穩(wěn)固性晶圓級(jí)扇出集成芯片和無(wú)源器件的封裝結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202121565744.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN214848593U | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-11-23 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN214848593U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-23 |
分類(lèi)號(hào) | H01L23/31(2006.01)I;H01L23/29(2006.01)I;H01L25/16(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊文濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江蘇芯德半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京華恒專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 裴素艷 |
地址 | 210000江蘇省南京市浦口區(qū)浦口經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)雙峰路69號(hào)A-11 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種強(qiáng)穩(wěn)固性晶圓級(jí)扇出集成芯片和無(wú)源器件的封裝結(jié)構(gòu),包括芯片、無(wú)源器件、再鈍化層、再分布線層及凸塊下金屬化層;芯片和無(wú)源器件的數(shù)量均為至少一個(gè),芯片和無(wú)源器件表面分別封壓有ABF膜,所述ABF膜上層包覆有塑封料層,所述塑封料層表面封壓有支撐晶圓;再鈍化層和再分布線層位于芯片壓區(qū)、無(wú)源器件壓區(qū)與凸塊下金屬化層之間,所述再鈍化層和再分布線層的一端與芯片壓區(qū)、無(wú)源器件壓區(qū)接觸,另一端通過(guò)焊球凸點(diǎn)與凸塊下金屬化層耦合。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)了晶圓級(jí)扇出異構(gòu)封裝芯片和電容電感,減小了芯片和無(wú)源器件的封裝尺寸、提高了封裝效率并且縮短了整個(gè)封裝流程。 |
