一種光刻方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110897743.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN113608415A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-11-05 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113608415A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-05 |
| 分類號(hào) | G03F7/20（2006.01）I;G03F7/16（2006.01）I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 雷文強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江蘇芯德半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京禾易知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張松云 |
| 地址 | 211800江蘇省南京市浦口區(qū)浦口經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)雙峰路69號(hào)A-11 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提出了一種光刻方法，于玻璃晶圓上設(shè)置有若干以劃片槽隔開(kāi)的芯片區(qū)域，所述芯片區(qū)域包括芯片內(nèi)開(kāi)口區(qū)域以及芯片邊緣無(wú)開(kāi)口區(qū)域，包括如下步驟：S1、涂膠：于玻璃晶圓表面涂覆光刻膠形成光刻膠薄膜；S2、曝光：劃分曝光區(qū)域，所述曝光區(qū)域包括第一曝光區(qū)以及第二曝光區(qū)，所述第一曝光區(qū)為芯片區(qū)域，所述第二曝光區(qū)為芯片邊緣無(wú)開(kāi)口區(qū)域，于第一曝光區(qū)進(jìn)行一次曝光，于第二曝光區(qū)進(jìn)行二次曝光，所述二次曝光的曝光能量低于一次曝光的曝光能量；S3、顯影：將經(jīng)二次曝光后的玻璃晶圓進(jìn)行顯影。本發(fā)明于曝光過(guò)程中，以不同的曝光能量曝光芯片不同區(qū)域，可給予芯片開(kāi)口區(qū)域以足夠曝光能量，同時(shí)避免芯片邊緣無(wú)開(kāi)口區(qū)域因曝光能量過(guò)強(qiáng)而形成殘膠。 |
