一種基于激光沖擊波的薄膜元件光學性能后處理方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710088946.1 申請日 -
公開（公告）號 CN106908867A 公開（公告）日 2017-06-30
申請公布號 CN106908867A 申請公布日 2017-06-30
分類號 G02B1/12;G01N21/3563;G01N21/59 分類 光學;
發(fā)明人 劉文文;曹宇;張健;朱德華 申請（專利權(quán)）人 昆山星諭傳感科技有限公司
代理機構(gòu) 北京中北知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 溫州大學;溫州大學激光與光電智能制造研究院;溫州天琴激光科技有限公司;曾歡;昆山星諭傳感科技有限公司
地址 325000 浙江省溫州市甌海經(jīng)濟開發(fā)區(qū)東方南路38號溫州市國家大學科技園孵化器
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種基于激光沖擊波的薄膜元件光學性能后處理方法，以未進行激光沖擊波后處理時升溫過程中薄膜元件透過率的變化特性T0的為基準，分別獲得E0、Em和ΔE對S次激光沖擊波處理后樣品升溫過程中薄膜元件透過率的變化特性TS的影響規(guī)律；根據(jù)TS的提升情況，對初始激光能量E0、能量遞增梯度ΔE和最大激光能量Em進行優(yōu)化，當薄膜元件透過率的變化特性曲線隨溫度的改變不再發(fā)生變化，且對應波長的透過率或反射率滿足被測樣品的要求時，停止循環(huán)，完成薄膜元件光學性能后處理。本發(fā)明實現(xiàn)了對高功率光學薄膜元件光學性能尤其是穩(wěn)定性的改善，結(jié)合實時在線調(diào)整后處理工藝參數(shù)，解決了低堆積密度薄膜的光學性能易受環(huán)境影響的難題。