一種集成光電子器件制造用蝕刻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810011991.1 申請日 -
公開（公告）號 CN108064119A 公開（公告）日 2018-05-22
申請公布號 CN108064119A 申請公布日 2018-05-22
分類號 H05K3/06;H01L21/67 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請（專利權(quán)）人 上海爾迪儀器科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 362100 福建省泉州市惠安縣紫山鎮(zhèn)達利飲料廠斜對面
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種集成光電子器件制造用蝕刻裝置，其結(jié)構(gòu)包括機架、輸送架、高壓噴淋頭、蝕刻開關(guān)、加熱板臺、廢液收容筒、廢液酸堿中和結(jié)構(gòu)，輸送架機械連接于機架的上端表面后部，高壓噴淋頭活動連接于機架的上端表面中間處且其垂直貫穿入機架的內(nèi)部空腔內(nèi)，加熱板臺活動連接于機架的內(nèi)部空腔中右處，廢液收容筒活動連接于高壓噴淋頭的左端表面，廢液酸堿中和結(jié)構(gòu)活動連接于機架的內(nèi)部空腔中下處，本發(fā)明在對集成光電子器件進行蝕刻操作的過程中，可以對設備的蝕刻噴淋廢液進行一定的酸堿中和處理，防止廢液中的酸對設備造成腐蝕，也避免酸性蒸汽對使用者的身體健康造成一定的傷害，減少設備的維護成本，有效提高了設備的可靠性能。