一種集成光電子器件制造用蝕刻裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810011991.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN108064119B | 公開（公告）日 | 2019-09-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN108064119B | 申請(qǐng)公布日 | 2019-09-20 |
| 分類號(hào) | H05K3/06（2006.01）I; H01L21/67（2006.01）I | 分類 | 其他類目不包含的電技術(shù); |
| 發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海爾迪儀器科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海宏京知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 上海爾迪儀器科技有限公司 |
| 地址 | 201107 上海市閔行區(qū)閔北路88弄1-30號(hào)第22幢Q158室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種集成光電子器件制造用蝕刻裝置，其結(jié)構(gòu)包括機(jī)架、輸送架、高壓噴淋頭、蝕刻開關(guān)、加熱板臺(tái)、廢液收容筒、廢液酸堿中和結(jié)構(gòu)，輸送架機(jī)械連接于機(jī)架的上端表面后部，高壓噴淋頭活動(dòng)連接于機(jī)架的上端表面中間處且其垂直貫穿入機(jī)架的內(nèi)部空腔內(nèi)，加熱板臺(tái)活動(dòng)連接于機(jī)架的內(nèi)部空腔中右處，廢液收容筒活動(dòng)連接于高壓噴淋頭的左端表面，廢液酸堿中和結(jié)構(gòu)活動(dòng)連接于機(jī)架的內(nèi)部空腔中下處，本發(fā)明在對(duì)集成光電子器件進(jìn)行蝕刻操作的過程中，可以對(duì)設(shè)備的蝕刻噴淋廢液進(jìn)行一定的酸堿中和處理，防止廢液中的酸對(duì)設(shè)備造成腐蝕，也避免酸性蒸汽對(duì)使用者的身體健康造成一定的傷害，減少設(shè)備的維護(hù)成本，有效提高了設(shè)備的可靠性能。 |
