一種等離子刻蝕機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810464195.3 申請日 -
公開（公告）號 CN108470671A 公開（公告）日 2018-08-31
申請公布號 CN108470671A 申請公布日 2018-08-31
分類號 H01J37/32 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 梁亞;梁志強 申請（專利權(quán)）人 上海爾迪儀器科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 310014 浙江省杭州市下城區(qū)潮王路18號浙江工業(yè)大學(xué)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體的說是一種等離子刻蝕機，包括反應(yīng)腔室，反應(yīng)腔室內(nèi)設(shè)置有離子產(chǎn)生電極；離子產(chǎn)生電極上方設(shè)置有支撐框以支撐待加工工件；支撐框上表面豎直開設(shè)有安裝孔；離子產(chǎn)生電極在對應(yīng)著安裝孔的區(qū)域開設(shè)有螺紋孔，安裝孔和螺紋孔通過螺釘連接；螺釘與支撐框之間設(shè)置有墊板，墊板能夠避免螺釘因振動而在安裝孔內(nèi)發(fā)生松動；支撐框在安裝孔的位置設(shè)置有密封單元，密封單元位于墊板的上方，密封單元與墊板相互配合實現(xiàn)對支撐框的安裝孔的密封。本發(fā)明能夠?qū)γ芊鈫卧M行固定，同時采用密封圈和液封等多種形式來阻止等離子體進入安裝孔后對離子產(chǎn)生電極造成破壞，提高了刻蝕機的使用壽命。