UV燙印膜和UV燙印膜組件

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021989883.0 申請日 -
公開（公告）號 CN213534249U 公開（公告）日 2021-06-25
申請公布號 CN213534249U 申請公布日 2021-06-25
分類號 B41M5/41（2006.01）I;B41M5/42（2006.01）I;B41M5/44（2006.01）I;C09J7/50（2018.01）I;C09J7/22（2018.01）I;C09J7/25（2018.01）I;C09J7/24（2018.01）I 分類 印刷；排版機；打字機；模印機〔4〕;
發(fā)明人 楊紅波;魯琴;徐曉光;羅家強 申請（專利權(quán)）人 武漢華工圖像技術(shù)開發(fā)有限公司
代理機構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 陳秋夢
地址 430000湖北省武漢市華工科技園內(nèi)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及防偽信息膜領(lǐng)域，具體而言，涉及一種UV燙印膜和UV燙印膜組件。UV燙印膜包括依次連接的UV信息層、第一色層和鍍層，UV信息層包括設(shè)置全息圖案的全息圖案區(qū)域和設(shè)置光標(biāo)的光標(biāo)區(qū)域，第一色層包括反射區(qū)域和非反射區(qū)域，反射區(qū)域與光標(biāo)區(qū)域?qū)?yīng)，非反射區(qū)域與全息圖案區(qū)域?qū)?yīng)。該UV燙印膜具有全息圖案區(qū)域亮度均勻，全息圖案信息復(fù)制完全的特點，并可以良好的保持光標(biāo)區(qū)域處的反射識別功能。