六方氮化硼表面扭轉(zhuǎn)雙層石墨烯及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111215650.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113979429A | 公開(公告)日 | 2022-01-28 |
申請公布號 | CN113979429A | 申請公布日 | 2022-01-28 |
分類號 | C01B32/186(2017.01)I | 分類 | 無機(jī)化學(xué); |
發(fā)明人 | 王浩敏;姜程鑫;王慧山;肖相生;王偉 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇云涌電子科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 賀妮妮 |
地址 | 200050上海市長寧區(qū)長寧路865號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種六方氮化硼表面扭轉(zhuǎn)雙層石墨烯及其制備方法,通過先對六方氮化硼襯底退火處理進(jìn)行清潔,然后在六方氮化硼襯底表面涂覆輔助材料同時對該輔助材料進(jìn)行加熱及減量處理,使保留在六方氮化硼襯底上的輔助材料含量保持在合適的厚度范圍內(nèi),通過選擇合適的輔助材料種類以及合適的保留厚度,以輔助后續(xù)石墨烯的形核成長,然后再結(jié)合特定的催化氣體材料實(shí)現(xiàn)在六方氮化硼襯底表面直接制備形成具有多轉(zhuǎn)角的雙層石墨烯。解決了六方氮化硼襯底表面石墨烯形核困難以及難以直接制備多轉(zhuǎn)角的雙層石墨烯的問題,為基于石墨烯的轉(zhuǎn)角電子學(xué)研究提供基礎(chǔ)。 |
