柔性玻璃上濺射沉積壓電薄膜的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010585778.9 申請日 -
公開（公告）號 CN111593332B 公開（公告）日 2021-06-11
申請公布號 CN111593332B 申請公布日 2021-06-11
分類號 C23C16/455;C23C16/40;C23C16/34;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;C23C28/04 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 尹小波;尹堃;肖斌;胡澤超 申請（專利權(quán)）人 湖南中云科技有限公司
代理機構(gòu) 長沙智路知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 柏琳容
地址 410000 湖南省長沙市岳麓區(qū)學(xué)士街道學(xué)士路755號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種柔性玻璃上濺射沉積壓電薄膜的方法。該方法包括：S1、將清洗后的柔性玻璃緊貼在磁控濺射鍍膜機的真空腔中的基片冷卻裝置的表面；S2、之后抽真空至真空度達到10?7～10?3Pa；S3、采用原子層沉積方法在所述柔性玻璃的表面沉積ZnO或者AlN納米級別的薄膜得到鍍膜柔性玻璃；S4、向所述真空腔中動態(tài)地通入工作氣體，所述工作氣體總壓強為0.2～10Pa；S5、啟動磁控濺射源，在所述鍍膜柔性玻璃上反應(yīng)濺射沉積壓電薄膜，之后向磁控濺射鍍膜機真空腔中放入大氣，取出樣品。本發(fā)明實現(xiàn)了在柔性玻璃上濺射沉積壓電薄膜。