一種鈦靶材晶粒細(xì)化的方法及鈦靶材

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110758654.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113481475A 公開(kāi)（公告）日 2021-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN113481475A 申請(qǐng)公布日 2021-10-08
分類號(hào) C23C14/34（2006.01）I;B21J5/00（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學(xué)澤;周敏 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 寧波江豐電子材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王巖
地址 315400浙江省寧波市余姚市經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)名邦科技工業(yè)園區(qū)安山路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種鈦靶材晶粒細(xì)化的方法及鈦靶材，所述方法包括以下步驟：（1）在400?500℃下對(duì)鈦靶材進(jìn)行預(yù)熱；（2）將步驟（1）所得鈦靶材進(jìn)行三向鍛造；（3）冷卻步驟（2）所得鈦靶材，得到晶粒尺寸為10?20μm的鈦靶材。本發(fā)明提供的方法專用于鈦靶材的晶粒細(xì)化，改善了鈦靶材濺射性能和濺射環(huán)境，提升了鍍膜質(zhì)量的同時(shí)簡(jiǎn)化了工藝流程，降低了加工成本。