三維復雜光場的全相位調制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200810124597.5 申請日 -
公開（公告）號 CN101387760A 公開（公告）日 2010-03-24
申請公布號 CN101387760A 申請公布日 2010-03-24
分類號 G02B27/46 分類 光學;
發(fā)明人 夏軍;雷威 申請（專利權）人 南京博士匯創(chuàng)產業(yè)發(fā)展有限公司
代理機構 南京經緯專利商標代理有限公司 代理人 葉連生
地址 211109江蘇省南京市江寧開發(fā)區(qū)東南大學路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種三維復雜光場的全相位調制方法，采用相干光源1照射全相位空間光 調制器2，全相位空間光調制器2出射平面的相干光經光學成像系統(tǒng)3傳播到達 第一成像平面4，相干光在自由空間繼續(xù)傳播，并依次到達第二成像平面5，第 三成像平面6等多個成像平面，在每個成像平面的設定區(qū)域內，振幅分布滿足設 定值，成像平面的設定區(qū)域和振幅分布設定值由三維空間復雜光場的分布決定， 全相位空間光調制器2的相位分布函數通過迭代方法求得，該方法可以實現(xiàn)在任 意三維曲面上的投影、實現(xiàn)三維立體顯示。