一種濺射靶材用高純鉬粉及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210232753.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114713834A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114713834A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-08 |
| 分類號(hào) | B22F9/22（2006.01）I;B22F1/14（2022.01）I;C23C14/34（2006.01）I | 分類 | 鑄造；粉末冶金; |
| 發(fā)明人 | 唐鑫鑫;謝志國(guó);楊曉青;李志翔 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 自貢硬質(zhì)合金有限責(zé)任公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都睿道專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 643010四川省自貢市人民路111號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種濺射靶材用高純鉬粉的制備方法，包括如下步驟：S1、一次還原；S2、混合；S3、二次還原；S4、氣流分級(jí)；S5、合批；本發(fā)明所提供的濺射靶材用高純鉬粉的制備方法，工藝簡(jiǎn)單，效率高，易于實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。生產(chǎn)過(guò)程中可將原料中的雜質(zhì)元素充分排出，并且避免了二次污染，制備的鉬粉純度高，顆粒尺寸均勻，費(fèi)氏粒度及松裝密度可根據(jù)不同的使用條件進(jìn)行調(diào)節(jié)。 |
