PDP保護(hù)屏的電磁波屏蔽膜的制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200510020548.3 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN100372449C 公開（公告）日 2008-02-27
申請公布號(hào) CN100372449C 申請公布日 2008-02-27
分類號(hào) H05K9/00(2006.01);H01J9/00(2006.01);H01J17/16(2006.01) 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 梁春林;湯嘉陵;王雨田;張勇;蒲志勇 申請（專利權(quán)）人 四川世創(chuàng)達(dá)電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都虹橋?qū)＠聞?wù)所 代理人 蒲敏
地址 610512四川省成都市新都開發(fā)區(qū)東區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種PDP保護(hù)屏的電磁波屏蔽膜的制作方法，其具體步驟為：1)靜電處理：對(duì)PET表面進(jìn)行靜電釋放處理；2)真空濺射膜：采用真空直流磁控濺射技術(shù)，在上述經(jīng)處理后的PET上濺射金屬膜；3)等離子刻蝕網(wǎng)膜：采用高精密等離子體刻蝕技術(shù)，在上述金屬膜上刻蝕網(wǎng)孔膜；4)等離子去膠：去除上述網(wǎng)孔膜上的刻蝕膠后即成。本發(fā)明的電磁波屏蔽膜由于采用了刻蝕技術(shù)來制作網(wǎng)孔膜，因此網(wǎng)膜的線徑和網(wǎng)間距均很小，網(wǎng)膜的對(duì)比度高、不產(chǎn)生光學(xué)變形，電磁波屏蔽性能好。