PDP保護屏的消除高光反射膜的制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200510020546.4 申請日 -
公開（公告）號 CN100368099C 公開（公告）日 2008-02-13
申請公布號 CN100368099C 申請公布日 2008-02-13
分類號 B05D5/06(2006.01);B05D7/24(2006.01);B05D3/02(2006.01);B05D3/00(2006.01) 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 梁春林;湯嘉陵;王雨田;張勇;蒲志勇 申請（專利權(quán)）人 四川世創(chuàng)達電子科技有限公司
代理機構(gòu) 成都虹橋?qū)＠聞?wù)所 代理人 蒲敏
地址 610512四川省成都市新都開發(fā)區(qū)東區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種PDP保護屏的消除高光反射膜的制作方法，其具體步驟為：1)靜電處理：對PET表面進行靜電釋放處理；2)摻雜配料：將采用納米粒子分散技術(shù)處理后的具有高折射率和低折射率的納米粒子材料，分別摻雜到耐溫透明樹脂里，配制成具有高、低折射率的納米粒子透明樹脂；3)浸漬、涂敷：將調(diào)配好的具有高、低折射率的納米粒子透明樹脂，分別在上述靜電處理后的PET薄膜表面上，交替層疊浸漬、涂敷，制成均勻、致密的薄膜；4)烘干：在60℃～80℃的環(huán)境中，加熱烘干即成。由于本發(fā)明的涂敷材料首先要經(jīng)過納米技術(shù)處理，因此薄膜致密、均勻，真正做到納米級粒子分散，膜層附著力強，霧度低，對比度高。