一種無蝕刻痕的電容屏Sensor制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201310302064.2 申請日 -
公開（公告）號 CN103365520A 公開（公告）日 2013-10-23
申請公布號 CN103365520A 申請公布日 2013-10-23
分類號 G06F3/044(2006.01)I 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 唐桂昌 申請（專利權）人 成都三利亞科技有限公司
代理機構 成都蓉信三星專利事務所（普通合伙） 代理人 四川世創(chuàng)達電子科技有限公司;成都三利亞科技有限公司
地址 610500 四川省成都市新都工業(yè)區(qū)東區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種無蝕刻痕的電容屏Sensor制作方法，包括（1）導電薄膜烘烤縮水，（2）電極處導電層蝕刻：采用酸刻或蝕刻膏蝕刻的方式，將導電薄膜需要布設電極區(qū)域的導電層蝕刻掉，（3）在已蝕刻區(qū)域布設電極，（4）將布設好電極的導電薄膜置于烤箱進行烘烤，（5）導電層中央蝕刻出Pattern。本發(fā)明改變了現(xiàn)有制作電容屏Sensor的步驟，將原來的導電薄膜→烘烤縮水→導電層蝕刻形成Pattern→電極制作(涉及烘烤)中，制作電極的步驟提前，Pattern的制作提后，這樣Pattern制作后，不再經過高溫烘烤，而避免了基材形變與導電層形變的不同，水波紋也隨之消除。