電解銅箔成型裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110741315.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113445082A 公開（公告）日 2021-09-28
申請公布號 CN113445082A 申請公布日 2021-09-28
分類號 C25D1/04（2006.01）I;F26B13/08（2006.01）I;F26B13/28（2006.01）I;F26B21/00（2006.01）I;F26B25/04（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 吳國宏;楊雨平;廖平元;劉少華;楊劍文;李志華;張任;陳優(yōu)昌 申請（專利權(quán)）人 廣東嘉元科技股份有限公司
代理機構(gòu) 廣州海心聯(lián)合專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 羅振國
地址 514000廣東省梅州市梅縣區(qū)雁洋鎮(zhèn)文社廣東嘉元科技股份有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了電解銅箔成型裝置，包括依次設(shè)置的成型裝置、清洗裝置、干燥裝置與收卷筒，所述成型裝置包括支架，支架上轉(zhuǎn)動安裝有陰極輥，陰極輥的表面與陽極板之間留有一定距離；所述陰極輥上設(shè)置有除水裝置與風(fēng)干裝置；所述干燥裝置包括干燥輥與安裝在干燥輥上的除水裝置與風(fēng)干裝置。除水裝置能夠減少擠水過程中電解液的濺射，提升了生產(chǎn)環(huán)境的安全性與清潔；風(fēng)干裝置通過設(shè)置一個相對密封的環(huán)境，避免在后續(xù)的傳輸過程中，銅箔表面的電解液滴落或蒸發(fā)，污染生產(chǎn)環(huán)境；水洗裝置產(chǎn)生的污水能夠被統(tǒng)一收集，不會四處濺射對生產(chǎn)環(huán)境以及電解銅箔造成污染，且能夠保證電解銅箔結(jié)構(gòu)表面平滑，提升成型的銅箔質(zhì)量。