一種氣相沉積爐內(nèi)氣體懸浮裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201922156987.7 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211079325U | 公開（公告）日 | 2020-07-24 |
| 申請公布號 | CN211079325U | 申請公布日 | 2020-07-24 |
| 分類號 | C23C16/455(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 黃洪福;藍圖;袁永紅;雷宏濤 | 申請（專利權(quán)）人 | 深圳市志橙半導(dǎo)體材料股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市添源知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 羅志偉 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市寶安區(qū)松崗街道潭頭社區(qū)健倉科技研發(fā)廠區(qū)辦公樓307 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型提供了一種氣相沉積爐內(nèi)氣體懸浮裝置，包括平行設(shè)置并且旋轉(zhuǎn)配合的石墨盤和底座，所述底座上設(shè)有主進氣孔、第一分氣孔、第二分氣孔、第一傾斜出氣孔和第二傾斜出氣孔，所述第一分氣孔、第二分氣孔分別位于所述主進氣孔的兩側(cè)，所述第一分氣孔、第二分氣孔分別與所述主進氣孔交匯連通于同一點。本實用新型的有益效果是：在主進氣孔的同一位置分出第一分氣孔、第二分氣孔，再分別通過第一傾斜出氣孔、第二傾斜出氣孔產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)氣體，推動石墨盤懸浮并轉(zhuǎn)動，保證了氣體流動阻力一致，有效保證了兩傾斜氣體流量一樣，懸浮效果好，旋轉(zhuǎn)順暢，可顯著提高薄膜均勻性以及質(zhì)量，并有效延長裝置的使用周期。?? |
