一種防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020026043.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211570768U | 公開（公告）日 | 2020-09-25 |
| 申請公布號 | CN211570768U | 申請公布日 | 2020-09-25 |
| 分類號 | C23C16/458(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 藍(lán)圖;黃洪福 | 申請（專利權(quán)）人 | 深圳市志橙半導(dǎo)體材料股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市添源知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 黎健任 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市寶安區(qū)松崗街道潭頭社區(qū)健倉科技研發(fā)廠區(qū)辦公樓307 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型涉氣相沉積領(lǐng)域，特別涉及一種防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座。其包括旋轉(zhuǎn)基座、安裝槽、與銷釘配合連接的卡槽，安裝槽設(shè)置在旋轉(zhuǎn)基座的中心位置并從旋轉(zhuǎn)基座的上表面向底部延伸，安裝槽的外側(cè)周圍均勻凸出設(shè)置有多個卡槽，卡槽從旋轉(zhuǎn)基座的上表面向底部延伸，卡槽與安裝槽連通。本石墨基座解決由于旋轉(zhuǎn)過程中由于石墨基座單邊受力，容易引起石墨基座旋轉(zhuǎn)不平衡，從而影響產(chǎn)品生產(chǎn)的穩(wěn)定性的問題，能有效降低石墨基座旋轉(zhuǎn)不平衡導(dǎo)致產(chǎn)品報廢的概率，顯著提高薄膜均勻性以及質(zhì)量，并有效延長石墨基座的使用周期。?? |
