一種氣相沉積爐內(nèi)氣體懸浮裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911233422.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110760820A 公開(kāi)（公告）日 2020-02-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN110760820A 申請(qǐng)公布日 2020-02-07
分類(lèi)號(hào) C23C16/455 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 黃洪福;藍(lán)圖;袁永紅;雷宏濤 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 深圳市志橙半導(dǎo)體材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市添源知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 羅志偉
地址 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)松崗街道潭頭社區(qū)健倉(cāng)科技研發(fā)廠區(qū)辦公樓307
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種氣相沉積爐內(nèi)氣體懸浮裝置，包括平行設(shè)置并且旋轉(zhuǎn)配合的石墨盤(pán)和底座，所述底座上設(shè)有主進(jìn)氣孔、第一分氣孔、第二分氣孔、第一傾斜出氣孔和第二傾斜出氣孔，所述第一分氣孔、第二分氣孔分別位于所述主進(jìn)氣孔的兩側(cè)，所述第一分氣孔、第二分氣孔分別與所述主進(jìn)氣孔交匯連通于同一點(diǎn)。本發(fā)明的有益效果是：在主進(jìn)氣孔的同一位置分出第一分氣孔、第二分氣孔，再分別通過(guò)第一傾斜出氣孔、第二傾斜出氣孔產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)氣體，推動(dòng)石墨盤(pán)懸浮并轉(zhuǎn)動(dòng)，保證了氣體流動(dòng)阻力一致，有效保證了兩傾斜氣體流量一樣，懸浮效果好，旋轉(zhuǎn)順暢，可顯著提高薄膜均勻性以及質(zhì)量，并有效延長(zhǎng)裝置的使用周期。