電學(xué)測試監(jiān)控反饋式化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)及其應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201911283328.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110983292A | 公開(公告)日 | 2020-04-10 |
申請公布號 | CN110983292A | 申請公布日 | 2020-04-10 |
分類號 | C23C16/26;C23C16/455;C23C16/52;C23C16/54;G01R31/00;G01R27/02 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 于葛亮;韓亞清;肖經(jīng)寬;杜人君;蔣思奇;張棣;康斯坦丁·諾沃肖洛夫 | 申請(專利權(quán))人 | 南通普朗克石墨烯科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 江蘇瑞途律師事務(wù)所 | 代理人 | 南通普朗克石墨烯科技有限公司 |
地址 | 226000 江蘇省南通市開發(fā)區(qū)廣州路42號410室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種電學(xué)測試監(jiān)控反饋式化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)及其應(yīng)用,屬于化學(xué)氣相沉積領(lǐng)域。系統(tǒng)包括化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)和電學(xué)測試系統(tǒng),所述化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)包括高溫爐,所述高溫爐中的爐腔內(nèi)設(shè)有穿過高溫爐的三通爐管,所述三通爐管設(shè)有上方開口,上方開口處的正下方設(shè)置有載樣臺;所述電學(xué)測試系統(tǒng)包括通過內(nèi)置導(dǎo)線連接的四探針測試桿和四探針測試儀;所述四探針測試桿與上方開口密封連接。本發(fā)明通過對化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)爐管的改造,使化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)與電學(xué)測試系統(tǒng)結(jié)合,進而有效的實現(xiàn)了對樣品生長質(zhì)量的實時監(jiān)控以及能夠及時反饋至控制系統(tǒng)以調(diào)節(jié)生長參數(shù),生成原子層級厚度的樣品,靈活性強,成膜效果好,樣品性能高。 |
