一種高活性低溫等離子體、制備方法及其用途

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011245864.1 申請日 -
公開(公告)號 CN112312638A 公開(公告)日 2021-02-02
申請公布號 CN112312638A 申請公布日 2021-02-02
分類號 H05H1/24(2006.01)I; 分類 其他類目不包含的電技術;
發(fā)明人 唐峰;石蕾 申請(專利權)人 杭州清稞科技有限公司
代理機構(gòu) 杭州偉知新盛專利代理事務所(特殊普通合伙) 代理人 李成龍
地址 310000浙江省杭州市江干區(qū)九環(huán)路9號4號樓301室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高活性低溫等離子體、制備方法及其用途,在高壓電場的作用下,溫度控制在?30~300℃,工作介質(zhì)被電離激發(fā),產(chǎn)生宏觀溫度接近室溫的高活性低溫等離子體,所述高活性低溫等離子體作用于細胞和細胞外基質(zhì),使細胞膜極化及引起氧化應激反應,抑制細胞外基質(zhì)聚集、纖維化和肌成纖維細胞,促進受損組織細胞的再生。高活性低溫等離子的特點是包括含氧自由基、含氮自由基,且被工作介質(zhì)包裹,活性高、顆粒小、穩(wěn)定性強,可直接吸入呼吸系統(tǒng)內(nèi)。由于其不含其他有害物質(zhì)、不經(jīng)過其他內(nèi)臟,不會對人體產(chǎn)生副作用。??