一種用于阻擋層平坦化的化學機械拋光液
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201611231383.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN108250977B | 公開(公告)日 | 2021-08-27 |
申請公布號 | CN108250977B | 申請公布日 | 2021-08-27 |
分類號 | C09G1/02(2006.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應用; |
發(fā)明人 | 潘依君;荊建芬;姚穎;杜玲曦;楊俊雅;張建;蔡鑫元;宋凱;王雨春 | 申請(專利權)人 | 安集微電子科技(上海)股份有限公司 |
代理機構 | 北京大成律師事務所 | 代理人 | 李佳銘;沈汶波 |
地址 | 201201上海市浦東新區(qū)華東路5001號金橋出口加工區(qū)(南區(qū))T6-9幢底層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種用于阻擋層平坦化的化學機械拋光液,其特征在于,包括研磨顆粒、唑類化合物、絡合劑、非離子表面活性劑和氧化劑,其中,所述非離子表面活性劑為聚乙二醇。其在較溫和的條件下具有高的阻擋層材料、介電層材料去除速率和可調的低介電材料、銅去除速率,并能在拋光過程中很好的控制碟型凹陷(Dishing)、介質層侵蝕(Erosion)、金屬腐蝕的產(chǎn)生,以及減少表面污染物。具有優(yōu)異的市場應用前景。 |
