一種用于阻擋層平坦化的化學機械拋光液

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201611231351.9 申請日 -
公開（公告）號 CN108250972B 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN108250972B 申請公布日 2021-09-21
分類號 C09G1/02（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I;C23F3/04（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應用;
發(fā)明人 蔡鑫元;姚穎;荊建芬;潘依君;杜玲曦;宋凱;張建;楊俊雅;王雨春 申請（專利權(quán)）人 安集微電子科技（上海）股份有限公司
代理機構(gòu) 北京大成律師事務所 代理人 李佳銘;沈汶波
地址 201201上海市浦東新區(qū)華東路5001號金橋出口加工區(qū)（南區(qū)）T6-9幢底層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于阻擋層平坦化的化學機械拋光液及其應用，該拋光液包含二氧化硅顆粒、唑類化合物、絡合劑、硅氧烷類表面活性劑和氧化劑。本發(fā)明的化學機械拋光液可以滿足阻擋層拋光過程中對各種材料的拋光速率和選擇比要求，對半導體器件表面的缺陷具有強的矯正能力，能夠快速實現(xiàn)平坦化，提高工作效率，降低生產(chǎn)成本。